Hüseyin SELÇUK, Hasan Z. SARIKAYA
Bu çalışmada fotokatalitik prosesinde hole ve elektron reaksiyonları fotoelektrokatalitik (FEK) prosesi içerisinde ayrılarak hole reaksiyonları ile humik asit (HA) giderimi toplam organik karbon (TOK), UV 254 ve Vis400 parametrelerinin ölçülmesi ile incelenmiştir. UV 254 ve Vis 400 arıtımının birinci derece kinetik modele uyduğu tespit edilmiştir. 25 mgL -1 HA çözeltisi 2 saat süre ile FEK proses içerisinde arıtıldıktan sonra yaklaşık olarak %96 Vis 400, %98 UV 254 ve %80 TOK giderimi elde edilmiştir. FEK arıtma sisteminde HA gideriminin fotokatalitik sisteme göre çok daha fazla olduğu gözlenmiştir. FEK HA giderimine pH, elektrolit ve elektrik potensiyeli etkisi ayrıca araştırılmıştır.
@article{fb72b4d5-4cc8-4332-897b-90cbcb5e4c22,
title={Fotoelektrokimyasal yöntemle humik asit giderimi},
author={Hüseyin SELÇUK and Hasan Z. SARIKAYA},
year={2004},
language={en}
}TY - JOUR TI - Fotoelektrokimyasal yöntemle humik asit giderimi AU - Hüseyin SELÇUK AU - Hasan Z. SARIKAYA PY - 2004 LA - en ER -
Chiranjib Kumar Gupta
This book provides a comprehensive overview of the field of chemical metallurgy, addressing both common and less common metals. The objective of the v
A. Ryan, E. Johanson
The design of process plants for feasibility studies must address several key objectives, including feasibility and constructibility, while focusing o
The Australasian Institute of Mining and Metallurgy
This conference, held in Perth, Western Australia, focuses on the latest advancements in metallurgical processing plant design and operational strateg
This paper addresses the challenge of assessing the feasibility of wind power plant projects at sites with insufficient or no local historic wind data
Important advances in electrochemical engineering technology over the last three decades have fostered the development of a lternative methods to alle